QIII MAX SPC 表面潔凈度量測(cè)儀

QIII表面微粒子計(jì)數(shù)器 表面潔凈分析儀

產(chǎn)品描述

表面微粒密度驗(yàn)證表面微粒子密度分析儀(表面清潔驗(yàn)證)及產(chǎn)品資料
表面微粒子密度分析計(jì)數(shù)器
美國(guó) Pentagon QIII max(0.3um) and QIII Ultra(0.1miron)
物體表面微粒子計(jì)數(shù)器產(chǎn)品目錄,對(duì)于做為表面微粒子檢測(cè)來(lái)說(shuō)是必須的驗(yàn)證工具且能夠使貴公司的客戶認(rèn)可.
供您參考.我們是美國(guó) Pentagon  中國(guó)區(qū) 的總代理商.

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Pentagon QIII max(0.3um) USD ex-work
Pentagon QIII Ultra(0.1miron)  USD ex-work
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QIII Max /Ultra更新功能：
1. 新的取樣模式增加準(zhǔn)確度
2. 7" 800X480大觸控螢?zāi)?(QIII+ 6"觸控螢?zāi)?
3. 改善取樣Probe插座.易拔插與更換
4. 二個(gè)使用者可換電池插座.可熱拔插 (原廠標(biāo)配2顆電池.充電器選配)
5. 可利用USB下載資料
6. QIII Ultra 可量測(cè)到0.1Micron
以下為QIII Max &QIII Ultra 詳細(xì)粒徑分布：
QIII Max QIII Ultra
0.3um 0.1um
0.5um 0.2um
1.0um 0.3um
3.0um 0.5um
5.0um 1.0um
10.0um 5.0um

適合使用單位:
u      適合客戶群:  包裝材料廠商: 如包裝材, 無(wú)塵紙,.....等
u      藥廠設(shè)備機(jī)臺(tái)裝表面清潔驗(yàn)證: 理瓶區(qū),灌裝機(jī), 分裝機(jī), 藥廠包裝材料廠商: 如包裝材,....

無(wú)菌醫(yī)療機(jī)械初包裝潔凈度 T/CAMDI 009.1-2020  微粒汙染試驗(yàn)方法 氣體吹脫法
u       半導(dǎo)體黃光, 蝕刻制程, 零件清洗商,設(shè)備清潔維護(hù), 光電廠, 玻璃基板廠等
u        對(duì)曝光機(jī); 顯影機(jī) ,蝕刻, 黃光 及偏光板貼附機(jī)臺(tái)效果顯著
u         Capture filter 能收集particles 由EDX 或FTIR分析particle 成分。
u         適合單位 : PVD, CVD, Photo, Ion Plant, YE, QA, QC ,  Microntation , Etch, Diffusion..

QIII+  , QIII ultra, QIII max, QIII LS,
QIII ST,  QIII SM,  QIII SX,

涂裝車(chē)間“潔凈度新標(biāo)準(zhǔn) — ISO14644-9

產(chǎn)品規(guī)格︰ 表面潔凈度, 表面微粒密度驗(yàn)證,表面微粒子密度分析儀(表面清潔驗(yàn)證)及產(chǎn)品資料,
表面微粒子密度分析計(jì)數(shù)器
目臺(tái)X電; 聯(lián)X電...等 皆選用此機(jī)型
提升良率; 確認(rèn)wiper擦拭方式及機(jī)臺(tái)保養(yǎng)是否達(dá)到清潔的效果
注意事項(xiàng)：
應(yīng)用: IEST-CC-1246D
美國(guó)Pentagon Technologies針對(duì)從submicron至eep submicron (0.18, 0.13..) 的Production機(jī)臺(tái), 建立了特別的PM procedure可降低50% Test Wafer的消耗量及增加OEF(Overall Equipment Effectiveness), 其應(yīng)用于各種Thin Film( PVD, CVD..), Etching and Diffusion Equipments. 以及工作臺(tái)面積臺(tái)表面潔凈度..等的驗(yàn)證. 此已為目前機(jī)臺(tái)維護(hù)作業(yè)時(shí)的標(biāo)準(zhǔn)工具之一.以及搭配MetOne Particle Counter對(duì)Mini-environment中量測(cè)particle, TRH, DP, velocity..的監(jiān)視系統(tǒng)可幫助Module equipment, process engineer/manager了解contamination issue.
Pentagon Technologies 亦針對(duì)Fab整體的contamination可提供詳細(xì)的偵測(cè)及評(píng)估(曾在TSMC, UMC,ADM fab 25…)進(jìn)而提高OFE (Overall Fab Effectiveness), 這可提供QA人員非常advanced的幫助。

產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)︰ 適合使用單位: IEST-CC-1246D, ISO14644-9,
1.適合客戶群: 半導(dǎo)體黃光, 蝕刻制程, 零件清洗商,設(shè)備清潔維護(hù), 光電廠, 玻璃基板廠等
2.Capture filter 能收集particles .由EDX 或FTIR分析particle 成分。
3.適合單位 : PVD, CVD, Photo, Ion Plant, YE, QA, QC , Microntation , Etch, Diffusion..
4.對(duì)曝光機(jī); 顯影機(jī) ,蝕刻, 黃光 及偏光板貼附機(jī)臺(tái)效果顯著
QIII+ , QIII ultra, QIII max, QIII LS,
QIII ST, QIII SM, QIII SX,
無(wú)菌醫(yī)療機(jī)械初包裝潔凈度
T/CAMDI 009.1-2020
微粒汙染試驗(yàn)方法 氣體吹脫法
涂裝車(chē)間“潔凈度新標(biāo)準(zhǔn) — ISO14644-9

主要市場(chǎng)︰ 半導(dǎo)體黃光, 蝕刻制程, 零件清洗商,設(shè)備清潔維護(hù), 光電廠, 玻璃基板廠等